据韩国今日电子新闻报道，三星计划进口更多ASML极紫外线EUV光刻机设备，总价值可达10万亿韩元。 

据悉，韩国三星电子在2023年第三季度亏损3.75万亿韩元，再加上前两个季度的亏损，三星电子总亏损已达12.69万亿韩元(约699亿)。

虽然合同中的保密条款未能披露具体细节，但证券市场报道称，该协议将使ASML在五年内提供50套设备，每台约2000亿韩元，总价值10万亿韩元（目前约551亿元）。目前还不清楚合同中的产品是现有的EUV光刻设备还是下一代。”High NA EUV"光刻设备。然而，目前EUV光刻设备的一个大问题是产量有限。据官方介绍，它“比卫星部件更复杂”，每年只能生产有限的数量。据说去年是40台，今年ASML估计是60台。目前，GD32兆易创新MCU芯片 三星电子、台积电、英特尔、SK海力士和美光有五家制造商需要并可以购买EUV光刻设备。其中，台积电约占供应量的70%，剩下的四家公司争夺剩下的30%。

去年6月，三星电子推出了世界上第一个全栅极（GAA）技术3nmOEM技术，因此公司一直在努力确保购买更多的EUV光刻设备，目标是在明年上半年进入3nm第二代工艺，2025年进入2nm工艺，2027年进入1.4nm工艺。

随着半导体设备工艺的不断进步，对制造设备的要求也越来越高。作为一种先进的制造技术，EUV光刻技术可以提高芯片的性能和集成度，因此备受业界关注。三星作为世界领先的半导体制造商之一，不断追求更先进的制造技术和技术，以确保其在市场上的竞争优势。进口更多的EUV光刻设备也是三星继续加强制造能力的重要措施之一。 

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