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巨亏后的三星计划投资10万亿韩元到半导体设备
发布日期:2024-03-28 06:54     点击次数:175

据韩国今日电子新闻报道,三星计划进口更多ASML极紫外线EUV光刻机设备,总价值可达10万亿韩元。 

据悉,韩国三星电子在2023年第三季度亏损3.75万亿韩元,再加上前两个季度的亏损,三星电子总亏损已达12.69万亿韩元(约699亿)。

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虽然合同中的保密条款未能披露具体细节,但证券市场报道称,该协议将使ASML在五年内提供50套设备,每台约2000亿韩元,总价值10万亿韩元(目前约551亿元)。目前还不清楚合同中的产品是现有的EUV光刻设备还是下一代。”High NA EUV"光刻设备。然而,目前EUV光刻设备的一个大问题是产量有限。据官方介绍,它“比卫星部件更复杂”,每年只能生产有限的数量。据说去年是40台,今年ASML估计是60台。目前,三星电子、台积电、英特尔、SK海力士美光有五家制造商需要并可以购买EUV光刻设备。其中,台积电约占供应量的70%,剩下的四家公司争夺剩下的30%。

去年6月,三星电子推出了世界上第一个全栅极(GAA)技术3nmOEM技术,因此公司一直在努力确保购买更多的EUV光刻设备,目标是在明年上半年进入3nm第二代工艺,2025年进入2nm工艺,2027年进入1.4nm工艺。

随着半导体设备工艺的不断进步,对制造设备的要求也越来越高。作为一种先进的制造技术,EUV光刻技术可以提高芯片的性能和集成度,因此备受业界关注。三星作为世界领先的半导体制造商之一,不断追求更先进的制造技术和技术,以确保其在市场上的竞争优势。进口更多的EUV光刻设备也是三星继续加强制造能力的重要措施之一。 

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